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化學真空系統(tǒng) MD 4C NT +AK SYNCHRO+EK使用一個真空泵即可同時實現(xiàn)兩種過程控制?？膳c旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、真空濃縮儀和真空烘箱等配合使用。每個真空連接口配備一個手動控制閥來調(diào)節(jié)進氣口的有效流量。

化學真空系統(tǒng) MD 4C NT +2AK在化學、生物和制藥等實驗室應用廣泛，主要用于不需要在出氣口收集溶劑蒸汽冷凝液的氣體或蒸汽的抽取、蒸發(fā)等過程。系統(tǒng)可很好地滿足高沸點溶劑的真空需求。

化學真空系統(tǒng) MD 1C +AK+EK廣泛應用于排氣、蒸發(fā)或者氣體抽取等過程。它可滿足高沸點溶劑更高的真空需求，常用來取代旋片泵。主要用于連接旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀和真空干燥箱。進氣口的分離瓶（AK）為玻璃材質(zhì)，外部覆保護膜，用來防止顆?；蛐∫旱芜M入泵體。出氣口的廢氣冷凝器（EK）效率高，結構緊湊，可實現(xiàn)近100%的溶劑回收效果，有效地循環(huán)利用溶劑同時保護環(huán)境。

化學隔膜泵 MD 12C NT可以滿足非常高的要求。MD 12C NT 的八泵頭三級結構，使其同時具有大抽氣速度和超高極限真空的優(yōu)點。所有與所抽介質(zhì)接觸的部件均采用耐化學腐蝕的氟塑料。經(jīng)廣泛驗證的PTFE“三明治”夾層結構膜片增強了其穩(wěn)定性，同時延長操作壽命。

化學隔膜泵 MD 4CRL NT描述 對于泵的氣密性要求非常高的那些應用，我們推薦使用MD 4CRL NT。這款三級泵同時具有大抽氣速度和超高極限真空的優(yōu)點。MD 4CRL NT的所有與被抽介質(zhì)接觸的部件都是由抗化學腐蝕的氟材料和一種特殊的、高耐腐蝕的不銹鋼材料構成。經(jīng)廣泛驗證的PTFE“三明治”夾層結構的膜片穩(wěn)定性更高，延長了操作壽命。經(jīng)測試，每個泵的整體漏率都僅為0.001mbar l/s。

VARIO®化學真空系統(tǒng) PC 3012 NT VARIO DUO由兩個獨立的VARIO®真空系統(tǒng)組成，在進氣口端并行連接，并通過一個CVC 3000控制器同時進行操控。真空條件可控制。兩個獨立真空泵的轉(zhuǎn)速可以根據(jù)真空需求控制?？刂破骷纯蓪崿F(xiàn)不需要用戶預設的全自動蒸餾，又可以進行特定的、可重復地程序編程。